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中商产业研究院多年专注细分产业市场研究，中国产业咨询上市机构。
2.1 政策环境（Political）
2.1.1 半导体设备政策汇总
2.1.2 半导体制造利好政策
2.1.3 集成电路企业税收优惠
2.1.4 集成电路产业政策扶持
2.1.5 产业投资基金的支持
2.2 经济环境（Economic）
2.2.1 宏观经济发展概况
2.2.2 工业经济运行情况
2.2.3 固定资产投资状况
2.2.4 未来经济发展展望
2.3 社会环境（social）
2.3.1 电子信息产业增速
2.3.2 电子信息设备规模
2.3.3 研发经费投入增长
2.3.4 科技人才队伍壮大
2.4 技术环境（Technological）
2.4.1 企业研发投入
2.4.2 技术迭代历程
2.4.3 企业专利状况
3.1 半导体产业链分析
3.1.1 半导体产业链结构
3.1.2 半导体产业链流程
3.1.3 半导体产业链转移
3.2 年全球半导体市场总体分析
3.2.1 市场销售规模
3.2.2 行业产品结构
3.2.3 区域市场格局
3.2.4 产业研发投入
3.2.5 市场竞争状况
3.2.6 企业支出状况
3.2.7 企业研发投入
3.2.8 产业发展前景
3.3 年中国半导体市场运行状况
3.3.1 产业发展历程
3.3.2 产业销售规模
3.3.3 市场规模现状
3.3.4 产业区域分布
3.3.5 市场机会分析
3.4 年中国IC设计行业发展分析
3.4.1 行业发展历程
3.4.2 市场发展规模
3.4.3 企业发展状况
3.4.4 产业地域分布
3.4.5 专利申请情况
3.4.6 资本市场表现
3.4.7 行业面临挑战
3.5 年中国IC制造行业发展分析
3.5.1 制造工艺分析
3.5.2 晶圆加工技术
3.5.3 市场发展规模
3.5.4 企业排名状况
3.5.5 行业发展措施
3.6 年中国IC封装测试行业发展分析
3.6.1 封装基本介绍
3.6.2 封装技术趋势
3.6.3 芯片测试原理
3.6.4 市场发展规模
3.6.5 芯片测试分类
3.6.6 企业排名状况
3.6.7 技术发展趋势
4.1 年全球半导体设备市场发展形势
4.1.1 市场销售规模
4.1.2 市场结构分析
4.1.3 市场区域分布
4.1.4 重点厂商介绍
4.1.5 厂商竞争格局
4.2 年中国半导体设备市场发展现状
4.2.1 市场销售规模
4.2.2 市场需求分析
4.2.3 企业竞争态势
4.2.4 企业产品布局
4.2.5 市场国产化率
4.2.6 行业发展成就
4.3 半导体产业核心设备——晶圆制造设备市场运行分析
4.3.1 设备基本概述
4.3.2 核心环节分析
4.3.3 主要厂商介绍
4.3.4 厂商竞争格局
4.3.5 市场发展规模
4.4 半导体产业核心设备——晶圆加工设备市场运行分析
4.4.1 设备基本概述
4.4.2 市场发展规模
4.4.3 市场价值构成
4.4.4 市场竞争格局
4.5 半导体设备行业财务状况分析
4.5.1 经营状况分析
4.5.2 盈利能力分析
4.5.3 营运能力分析
4.5.4 成长能力分析
4.5.5 现金流量分析
5.1 半导体光刻环节基本概述
5.1.1 光刻工艺重要性
5.1.2 光刻工艺的原理
5.1.3 光刻工艺的流程
5.2 半导体光刻技术发展分析
5.2.1 光刻技术原理
5.2.2 光刻技术历程
5.2.3 光学光刻技术
5.2.4 EUV光刻技术
5.2.5 X射线光刻技术
5.2.6 纳米压印光刻技术
5.3 年光刻机市场发展综述
5.3.1 光刻机工作原理
5.3.2 光刻机发展历程
5.3.3 光刻机产业链条
5.3.4 光刻机市场规模
5.3.5 光刻机竞争格局
5.3.6 光刻机技术差距
5.4 光刻设备核心产品——EUV光刻机市场状况
5.4.1 EUV光刻机基本介绍
5.4.2 典型企业经营状况
5.4.3 EUV光刻机需求企业
5.4.4 EUV光刻机研发分析
6.1 半导体刻蚀环节基本概述
6.1.1 刻蚀工艺介绍
6.1.2 刻蚀工艺分类
6.1.3 刻蚀工艺参数
6.2 干法刻蚀工艺发展优势分析
6.2.1 干法刻蚀优点分析
6.2.2 干法刻蚀应用分类
6.2.3 干法刻蚀技术演进
6.3 年全球半导体刻蚀设备市场发展状况
6.3.1 市场发展规模
6.3.2 市场竞争格局
6.3.3 设备研发支出
6.4 年中国半导体刻蚀设备市场发展状况
6.4.1 市场发展规模
6.4.2 企业发展现状
6.4.3 市场需求状况
6.4.4 市场发展机遇
7.1 半导体清洗环节基本概述
7.1.1 清洗环节的重要性
7.1.2 清洗工艺类型比较
7.1.3 清洗设备技术原理
7.1.4 清洗设备主要类型
7.1.5 清洗设备主要部件
7.2 年半导体清洗设备市场发展状况
7.2.1 市场发展规模
7.2.2 市场竞争格局
7.2.3 市场发展机遇
7.2.4 市场发展趋势
7.3 半导体清洗机领先企业布局状况
7.3.1 迪恩士公司
7.3.2 盛美半导体
7.3.3 至纯科技公司
7.3.4 国产化布局
8.1 半导体测试环节基本概述
8.1.1 测试流程介绍
8.1.2 前道工艺检测
8.1.3 中后道的测试
8.2 年半导体测试设备市场发展状况
8.2.1 市场发展规模
8.2.2 市场竞争格局
8.2.3 细分市场结构
8.2.4 设备制造厂商
8.2.5 主要产品介绍
8.3 半导体测试设备重点企业发展启示
8.3.1 泰瑞达
8.3.2 爱德万
8.4 半导体测试核心设备发展分析
8.4.1 测试机
8.4.2 分选机
8.4.3 探针台
9.1 单晶炉设备
9.1.1 设备基本概述
9.1.2 设备数量规模
9.1.3 企业竞争格局
9.1.4 市场空间测算
9.2 氧化/扩散设备
9.2.1 设备基本概述
9.2.2 市场发展现状
9.2.3 企业竞争格局
9.2.4 核心产品介绍
9.3 薄膜沉积设备
9.3.1 设备基本概述
9.3.2 市场发展现状
9.3.3 企业竞争格局
9.3.4 市场前景展望
9.4 化学机械抛光设备
9.4.1 设备基本概述
9.4.2 市场发展规模
9.4.3 市场竞争格局
9.4.4 主要企业分析
10.1 应用材料（Applied Materials, Inc.）
10.1.1 企业发展概况
10.1.2 企业发展历程
10.1.3 企业经营状况
10.1.4 企业核心产品
10.1.5 企业业务布局
10.1.6 企业发展前景
10.2 泛林集团（Lam Research Corp.）
10.2.1 企业发展概况
10.2.2 企业经营状况
10.2.3 企业核心产品
10.2.4 企业发展前景
10.3 阿斯麦（ASML Holding NV）
10.3.1 企业发展概况
10.3.2 企业发展历程
10.3.3 企业经营状况
10.3.4 企业核心产品
10.3.5 企业发展前景
10.4 东京电子（Tokyo Electron, TEL）
10.4.1 企业发展概况
10.4.2 企业经营状况
10.4.3 企业核心产品
10.4.4 企业发展前景
11.1 浙江晶盛机电股份有限公司
11.1.1 企业发展概况
11.1.2 经营效益分析
11.1.3 业务经营分析
11.1.4 财务状况分析
11.1.5 核心竞争力分析
11.1.6 公司发展战略
11.1.7 未来前景展望
11.2 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
11.2.1 企业发展概况
11.2.2 经营效益分析
11.2.3 业务经营分析
11.2.4 财务状况分析
11.2.5 核心竞争力分析
11.2.6 公司发展战略
11.2.7 未来前景展望
11.3 中微半导体设备（上海）股份有限公司
11.3.1 企业发展概况
11.3.2 经营效益分析
11.3.3 业务经营分析
11.3.4 财务状况分析
11.3.5 核心竞争力分析
11.3.6 公司发展战略
11.3.7 未来前景展望
11.4 北方华创科技集团股份有限公司
11.4.1 企业发展概况
11.4.2 经营效益分析
11.4.3 业务经营分析
11.4.4 财务状况分析
11.4.5 核心竞争力分析
11.4.6 未来前景展望
11.5 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
11.5.1 企业发展概况
11.5.2 经营效益分析
11.5.3 业务经营分析
11.5.4 财务状况分析
11.5.5 核心竞争力分析
11.5.6 公司发展战略
11.5.7 未来前景展望
11.6 北京华峰测控技术股份有限公司
11.6.1 企业发展概况
11.6.2 经营效益分析
11.6.3 业务经营分析
11.6.4 财务状况分析
11.6.5 核心竞争力分析
11.6.6 公司发展战略
11.6.7 未来前景展望
11.7 中电科电子
11.7.1 企业发展概况
11.7.2 企业核心产品
11.7.3 企业参与项目
11.7.4 产品研发动态
11.7.5 企业发展前景
11.8 上海微电子
11.8.1 企业发展概况
11.8.2 企业发展历程
11.8.3 企业参与项目
11.8.4 企业创新能力
11.8.5 企业发展地位
12.1 半导体设备企业并购市场发展状况
12.1.1 企业并购历史回顾
12.1.2 行业并购特征分析
12.1.3 企业并购动机归因
12.1.4 行业企业并购动态
12.2 中国半导体设备市场投资机遇分析
12.2.1 整体投资机遇分析
12.2.2 建厂加速拉动需求
12.2.3 产业政策扶持发展
12.3 半导体设备行业投资机会点分析
12.3.1 薄膜工艺设备
12.3.2 刻蚀工艺设备
12.3.3 光刻工艺设备
12.3.4 清洗工艺设备
12.4 半导体设备行业投资壁垒分析
12.4.1 技术壁垒分析
12.4.2 客户验证壁垒
12.4.3 竞争壁垒分析
12.4.4 资金壁垒分析
12.5 半导体设备行业投资风险分析
12.5.1 经营风险分析
12.5.2 行业风险分析
12.5.3 宏观环境风险
12.5.4 知识产权风险
12.5.5 人才资源风险
12.5.6 技术研发风险
12.6 半导体设备投资价值评估及建议
12.6.1 投资价值综合评估
12.6.2 行业投资特点分析
12.6.3 行业投资策略建议
13.1 半导体湿法设备制造项目
13.1.1 项目基本概述
13.1.2 资金需求测算
13.1.3 建设内容规划
13.1.4 经济效益分析
13.1.5 项目基本概述
13.1.6 资金需求测算
13.1.7 实施进度安排
13.1.8 经济效益分析
13.2 光刻机产业化项目
13.2.1 项目基本概述
13.2.2 资金需求测算
13.2.3 建设内容规划
13.2.4 经济效益分析
13.3 半导体设备产业化基地建设项目
13.3.1 项目基本概述
13.3.2 资金需求测算
13.3.3 项目进度安排
13.3.4 项目投资价值
14.1 中国半导体产业未来发展趋势
14.1.1 技术发展利好
14.1.2 自主创新发展
14.1.3 产业地位提升
14.1.4 市场应用前景
14.2 中国半导体设备行业发展前景展望
14.2.1 政策支持发展
14.2.2 行业发展机遇
14.2.3 市场应用需求
14.2.4 行业发展前景
14.3 年中国半导体设备行业预测分析
图表1 半导体分类结构图
图表2 半导体分类
图表3 半导体分类及应用
图表4 半导体设备构成
图表5 IC芯片制造核心工艺主要设备全景图
图表6 中国半导体设备行业相关政策汇总
图表7 《中国制造2025》半导体产业政策目标与政策支持
图表8 年IC产业政策目标与发展重点
图表9 一期大基金投资各领域份额占比
图表10 国家集成电路产业基金二期出资方（一）
图表11 国家集成电路产业基金二期出资方（二）
图表12 国家集成电路产业投资基金二期投资方向
图表13 年国内生产总值及其增长速度
图表14 年三次产业增加值占国内生产总值比重
图表15 2019年主要工业产品产量及其增长速度
图表16 年中国全部工业增加值及增速
图表17 2020年主要工业产品产量及其增长速度
图表18 2019年三次产业投资占固定资产投资（不含农户）比重
图表19 2019年分行业固定资产投资（不含农户）增长速度
图表20 2019年固定资产投资新增主要生产与运营能力
图表21 2019年房地产开发和销售主要指标及其增长速度
图表22 2020年三次产业投资占固定资产投资比重（不含农户）
图表23 2020年分行业固定资产投资（不含农户）增长速度
图表24 2020年固定资产投资新增主要生产与运营能力
图表25 2020年房地产开发和销售主要指标及其增长速度
图表26 年电子信息制造业增加值和出口交货值分月增速
图表27 年电子信息制造业营业收入、利润增速变动情况
图表28 年电子信息制造业PPI分月增速
图表29 年电子信息制造固定资产投资增速变动情况
图表30 年电子信息制造业增加值和出口交货值分月增速
图表31 年电子信息制造业营业收入、利润增速变动情况
图表32 年电子信息制造业PPI分月增速
图表33 年电子信息制造固定资产投资增速变动情况
图表34 年通信设备行业增加值和出口交货值分月增速
图表35 年电子元件行业增加值和出口交货值分月增速
图表36 年电子器件行业增加值和出口交货值分月增速
图表37 年计算机制造业增加值和出口交货值分月增速
图表38 年通信设备行业出口交货值分月增速
图表39 年电子元件行业出口交货值分月增速
图表40 年电子器件行业出口交货值分月增速
图表41 年计算机制造业出口交货值分月增速
图表42 2019年财政科学技术支出情况
图表43 2019年分行业规模以上工业企业研究与试验发展（R&D）经费情况
图表44 2019年各地区研究与试验发展（R&D）经费情况
图表45 泛林半导体研发费用投入及占收入比重
图表46 应用材料研发费用投入及占收入比重
图表47 东京电子研发费用投入及占收入比重
图表48 年中微半导体研发费用投入及占收入比重
图表49 年中国A股半导体产业链企业专利数统计情况
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