2021年中国光刻胶产业链上中下游市场剖析（附产业链全景图）-中商情报网

2021年中国光刻胶产业链上中下游市场剖析（附产业链全景图） 中商产业研究院 2021-06-11 17:25

中商情报网讯：光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。

一、产业链

我国光刻胶产业链中，上游原材料主要包括；中游为各类型的光刻胶，主要分为PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶；下游为应用领域，光刻胶主要用来制造印刷电路板、平板显示屏、半导体等。

资料来源：中商产业研究院

二、上游分析

1.原料概况

光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分构成的对光敏感的混合液体。生产光刻胶的原料包括光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体及其他助剂等。具体如下图所示：

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2.成本占比

生产光刻胶的原料包括光刻胶树脂、单体、光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）及其他助剂等。数据显示，树脂占光刻胶总成本的50%，在光刻胶各成分中占比最大，其次是占35%的单体和占15%的光引发剂及其他助剂。

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3.重点企业分析

下图为全球范围光刻胶溶剂主要生产企业汇总一览表：

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下图为全球范围光刻胶单体主要生产企业汇总一览表：

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下图为全球范围光刻胶树脂主要生产企业汇总一览表：

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下图为全球范围光刻胶光引发剂主要生产企业汇总一览表：

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三、中游分析

1.光刻胶分类

光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类，根据应用领域，光刻胶可分为半导体光刻胶、平板显示光刻胶和PCB光刻胶，其技术壁垒依次降低。相应地，PCB光刻胶是目前国产替代进度最快的，LCD光刻胶替代进度相对较快，半导体光刻胶目前国产技术较国外先进技术差距最大。具体如下图所示：

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2.光刻胶产量

在国家一系列红利政策带动下，中国半导体、平板显示及PCB行业发展势头良好。作为半导体、平板显示及PCB行业制造环节中关键的材料，光刻胶的市场需求得到快速释放，尤其是LCD光刻胶产量增长。数据显示，我国光刻胶产量由2016年7万吨增至2019年11万吨。中商产业研究院预测，2021年我国光刻胶产量可达15万吨。

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3.市场规模

数据显示，我国光刻胶市场规模由2016年53.2亿元增至2019年81.4亿元，年均复合增长率为15.23%。中商产业研究院预测，2021年我国光刻胶市场规模可达93.3亿元。

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数据显示，2020年我国PCB光刻胶国产企业占比较大达61%，LCD光刻胶及半导体光刻胶国产企业占比较小，主要还是依赖于进口。占比分别达35%、29%。

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4.竞争格局

目前，全球光刻胶生产制造主要被日本JSR、东京应化、信越化学、住友化学等制造商所垄断，尤其在高分辨率的KrF和ArF光刻胶领域，其核心技术基本由美国和日本制造商所掌握。中国本土企业在光刻胶市场的份额较低，与国外光刻胶制造商仍存在差距。数据显示，东京应化市场占比最大达27%，杜邦市场占比达17%，JSR市场占比达13%。