中商情报网讯：光学掩模版在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC、FPD、PCB、MEMS等。

市场规模

随着半导体产业整体需求持续扩张，全球光掩模板规模表现为稳步增长趋势，行业整体技术壁垒深厚，产业集中度高，龙头议价能力高，利润水平高，数据显示，2020年全球光掩膜版市场规模达41.88亿美元，预计2023年将达51亿美元。

数据来源：SEMI、中商产业研究院整理

竞争格局

市场主要为美国Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所垄断，占比分别为32%、27%和23%。而国内半导体掩模版行业发展较为落后，仅部分公司在面板领域实现较好的技术和客户突破，而半导体领域极度依赖海外进口。

数据来源：中商产业研究院整理

更多资料请参考中商产业研究院发布的《中国光掩模行业市场前景及投资机会研究报告》，同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、行业研究报告、行业白皮书、商业计划书、可行性研究报告、园区产业规划、产业链招商图谱、产业招商指引、产业链招商考察&推介会等服务。